潔凈實(shí)驗(yàn)室潔凈工程所指一定區(qū)域范圍內(nèi)，將空氣中塵粒、有危害氣體、病菌等污染物質(zhì)清除，并把室溫、潔凈度等級(jí)、工作壓力、氣旋速度氣流分布、噪聲震動(dòng)及燈光、靜電感應(yīng)操縱在某一要求范圍之內(nèi)工程學(xué)科。凈化車間工程所尤其設(shè)計(jì)方案房間，無(wú)論外在美氣體標(biāo)準(zhǔn)怎么變，房間內(nèi)均具備保持原來(lái)所設(shè)置規(guī)定之潔凈度等級(jí)、溫度濕度及工作壓力等特性。

潔凈實(shí)驗(yàn)室里的溫濕度控制：

潔凈實(shí)驗(yàn)室的溫度濕度通常是依據(jù)工藝標(biāo)準(zhǔn)來(lái)決定，但達(dá)到工藝標(biāo)準(zhǔn)條件下，應(yīng)注意到人舒適感感。伴隨著空氣潔凈度規(guī)定的提升，出現(xiàn)加工工藝對(duì)溫度濕度的需求也越來(lái)越嚴(yán)格的態(tài)勢(shì)。

實(shí)際加工工藝對(duì)環(huán)境溫度的需求之后還要例舉，但是作為總的基本原則看，考慮到尺寸精度愈來(lái)愈細(xì)致，因此對(duì)溫度變化范疇的需求愈來(lái)愈小。比如在規(guī)模性集成電路芯片制造的光刻技術(shù)曝出加工工藝中，做為掩膜板原材料玻璃與硅片的線膨脹系數(shù)的差規(guī)定愈來(lái)愈小?？讖?00um的單晶硅片，溫度升高1度，就導(dǎo)致了0.24um線性澎漲，因此需有±0.1多度控溫，并要求環(huán)境濕度值一般比較低，由于人出汗之后，對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量即將迎來(lái)環(huán)境污染，尤其是怕鈉的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)車間，這類生產(chǎn)車間不適合超出25度。

濕度太高所產(chǎn)生的難題大量?？諝鉂穸瘸?5％時(shí)，冷卻管內(nèi)壁會(huì)冷凝水，如果出現(xiàn)在高精密設(shè)備或電路板上，就會(huì)引發(fā)各種各樣安全事故?？諝鉂穸仍?0％易銹蝕。除此之外，濕度過高時(shí)把根據(jù)空氣中水分把單晶硅片表層黏著的塵土化學(xué)吸附在表面上耐無(wú)法消除?？諝鉂穸仍酱?黏附的難除掉，但是當(dāng)空氣濕度少于30％時(shí)，又因靜電感應(yīng)力作用使顆粒也很容易吸咐于表層，與此同時(shí)很多半導(dǎo)體元器件很容易發(fā)生穿透。